La deposición física de vapor (PVD), a veces llamada transporte físico de vapor (PVT), describe una variedad de métodos de deposición al vacío que se pueden usar para producir películas y recubrimientos.

PVD se caracteriza por la transformación de materiales de la fase condensada a la fase gaseosa y luego de vuelta a la fase condensada.

El PVD para la fabricación requiere películas delgadas para funciones mecánicas, ópticas, químicas o electrónicas. Estos incluyen dispositivos semiconductores como paneles solares de película delgada, películas de PET aluminizado para empaques de alimentos y globos, y herramientas de corte recubiertas para trabajar metales.

ventajas:

1, el recubrimiento PVD a veces es más duro y más resistente a la corrosión que las aplicaciones del proceso de recubrimiento.

2, se puede utilizar casi cualquier tipo de materiales de revestimiento inorgánicos y algunos orgánicos en sustratos y superficies igualmente diversos utilizando una variedad de acabados.

3, más respetuoso con el medio ambiente que la galvanoplastia, la pintura y otros procesos de recubrimiento tradicionales.

4. Se puede utilizar más de una técnica para depositar una película determinada.

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